我国在光刻机研制方面是否有专业的研发机构或团队？-五金网

　　答案是有的

　　芯片加工其实是一个系统工程，其中光刻机的研制主要由各子系统及主系统集成几个方面组成，我国在2002年推出的“十五”规划中《国家科技16个重大专项》的（02专项）就是针对光刻机设备的研发。并且为此专门组建了上海微电子装备有限公司(SMEE)作为研发主力，并且把中电科45所有关光科技研发的技术团队转移到了上海。

　　同时各主要的子系统部分也分别委托国内相关领域的顶尖科研团队参与集体研发。

　　极紫外光刻机（EUV）的研制主力研发单位是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称长春光机所）

　　光源部分：由哈尔滨工业大学方面负责，最近消息DPP-EUV光源已经到了接近12* W的水平。

　　物镜部分：北京某单位已经研发成功对应的大口径光学镜面超精密加工机床，相关样机已经研制完成。

　　目前极紫外光刻机（EUV）样机已经完成并通过了国家验收，预计两年内正式量产的样机即将问世。

　　（毕竟长春光机所很早就是我国专业研究光刻机的科研单位，而且也是军用卫星镜头的主要研究单位，光学实力还是有的，同时据说长春光机主导研发的军用光刻机已经达到了28MN的加工精度，光机所控股的奥普光电就是以军用芯片生产为主的企业，只不过军用光刻机因为成本问题无法在民用领域进行推广）

　　深紫外浸入式光刻机（DUV）由上海微电子负责总体研发，

　　其中超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所（中科院下属专门从事激光专业的研究所，简称上光所）

　　光刻机物镜组来自北京国望光学。（主要科研团队来自于长春光机所旗下的长春国科精密光学技术有限公司，是我国唯一一家超精密光学系统产业化技术研发单位，并且已经与长春光机所和上海光机所达成了战略投资。）

　　光源来自科益虹源。（是由亦庄国投、中国科学院光电院及微电子所、国科控股等共同出资设立，是具备专业高端准分子激光技术研究和产品化能力的企业）

　　浸液系统来自浙江启尔机电。（公司前身是浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队，团队先后承担国家863计划和国家02科技重大专项等科研项目30余项。公司专注于光刻机浸没系统及其衍生产品的研发，在流体精密测控、（泛）半导体制造以及超纯工艺等方面拥有丰富的技术经验）。

　　双工件台来自华卓精科。（由清华IC装备团队在清华大学及其下属“北京-清华工业技术研究院”和02专项的支持下创立，是一家肩负着专项重大科研成果产业化重任的高新技术企业。华卓精科主要从事半导体制造装备及其关键零部件研发、设计、生产、销售与技术服务。）

　　上海微电子将于今年（2022年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）。

　　可以看出，上面所列的科研机构和企业基本大都是基于02专项发展而来，可以说是集聚了我国各行业的顶尖科研实力，国家在很多年前就已经开始发力攻克光刻机的难关，相信在不远的未来国产光刻机一定能够成为我国的芯片行业的有力支撑。

　　这个肯定是有的，接下来我会根据个人的了解，给大家简单分析下，希望可以给大家提供帮助

　　1978年，1445所在GK-3光刻机的基础上开发了GK-4光刻机，把加工圆片直径从 50 毫米提高到 75 毫米。在同一年，中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机，并在1981年研制成功两台样机。1982年科学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低。1985 年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平。

　　个人分析：从这些可以看出，当时中国在光刻机机领域已经开始在研发，但是苦于技术问题，大规模应用还存在很大得困难。

　　90年代，由于国内奉行对外贸易政策，很多企业把中心都放在了对外贸易上，抛弃了独立自主，自力更生的指导方针，光刻机的研发基本处于停滞状态。

　　2000年后，中国芯片进入了海归创业和民企大发展的时代。大量的海归企业家从国外带来了先进的技术理念，促进了中国半导体行业的迅速发展。

　　2002年，上海微电子承担了 " 十五 " 光刻机的项目。

　　2009年，上海微电子研发的先进封装光刻机通过了出厂工艺测试，并正式签订了产品销售合同。该光刻机具有“大视场、大焦深、高套刻精度、边缘曝光”等技术特点，可满足先进封装I艺中8英寸及12英寸硅片级重新布线凸点等厚胶工艺要求。

　　2022年，上海微电子已经可以生产110纳米和280纳米的光刻机。

　　2022年，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。上海微电子600系列光刻机SSA600/20已经实现90nm分辨率，这已经是目前国产光刻机最先进的技术了。

　　个人分析：国产先进封装光刻机的研制成功与使用，标志着我国在高端封装关键设备产品创新与开发中取得了巨大的进步，对提升我国集成电路制造装备、工艺及材料技术的自主创新能力具有非常重要的意义。

　　上海微电子

　　中国电科

　　长春光机所

　　合肥芯硕半导体

　　先腾光电科技

　　总体来说，我国在光刻机领域的研制一直没有停止过，不过受制于各种因素，研制的进度比较缓慢，近几年来取得了较大的发展，但和世界先进水平还有较大差距。生产高端芯片使用的光刻机还是依赖于进口。相信不久的将来，我们是可以实现光刻机自主国产化的。

　　以上就是我个人对于此问题的理解和分析，如有不足之处还请多多指教，喜欢的可以点赞关注，谢谢!

关键就是上海微电子太无能，上海微电子必须进行混改，国企体制效率太低，一群人在混日子，永远赶不上于国际水平；支持华为收购上海微电子的大部分股权，交给华为全面接管上海微电子，进行集中突破或许还有一线希望；或者直接统一台湾，拿下台积电，一举多得。

　　咱们国内的上海微电子和安芯半导体都已经研制并发货了光刻机

　　上海微电子是咱们国内光刻机制造领域的龙头企业，占有国内光刻机市场的百分之七八十，并且还打开了国际市场发往海外！

　　2009年12月，上海微电子的首台先进封装光刻机产品SSB500/10A交付用户！

　　2022年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收！

　　如今，上海微电子研制的最新光刻机SSX600系列步进扫描投影光刻机，已经能够满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求！

　　据悉，2022年上海微电子出货光刻机50-60台；预计2022年出货光刻机不低于50台…

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　　不仅仅是上海微电子，福建安芯半导体已经先后出货了2台光刻机，国产化率达到了60%左右！

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　　上海微电子在低端光刻机市场，是超强级别的，但是却一直未能挤进中高端光刻机市场！

　　全球高端光刻机市场完全由荷兰阿斯麦ASML垄断，因为只有阿斯麦ASML搞定了EUV光刻机；想要生产/代工7nm制程及更先进制程的芯片，就必须要有EUV光刻机！

　　全球中端光刻机市场，主要由ASML、尼康、佳能垄断，ASML占大头！

　　上海微电子光刻机在技术水平上远远落后于阿斯麦，正在不断追近尼康和佳能！

　　落后并不可怕，只要咱们不认怂，总有一天能够追上去，甚至完成超越！

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　　以上仅为浩子哥个人浅见，欢迎批评指正；

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　　我回答的题目是：

　　题目中的“光刻机专业研发机构”，单指上海微电子及其配套企业，是我国光刻机应用技术研发和创新的主体。

　　我们的国家用算盘就能打出原子弹来，光刻机已经在研发的路上，只是太精密得设备暂时没有，由于美国的管控，导致我国的技术有些落后，能把胖五送上天，这个也不是大问题。

　　感谢您的阅读！

　　我国光刻机它是有专门的研发机构。

　　其实，早在1977年就开了会，进行了讨论：1977年光刻机技术座谈会在江苏吴县召开。就是在那个时候我们已经对于光刻机有了十足的重视程度，对于我们来说光刻机技术一直是我们研究的重点。

　　我们为什么现在没有世界顶级的光刻机企业，我觉得最主要的是因为西方技术的限制以及禁锢，其实对于光刻机技术，西方国家通过各种手段来阻止我国的发展，而像ASML一样能够成为世界顶级的光刻机企业，原因也相对比较复杂。

　　第一：ASML是在最好的时机，抓到了光刻机的契机，所以能够迅速的超过日本的尼康，让光刻机领域迅速的发展。

　　第二：获得了众多的科技类企业的加盟，比如说像英特尔，台积电，三星等等，这些企业不但让它获得了客户，也让它获得了资金的投入和支持。

　　第三：世界各地最先进的技术都会运用在阿迈斯的光刻机上，可以说阿迈斯的光刻机是世界化大生产的产物。

　　我国现在的上海微电子推出的是90纳米的光刻机，虽然我们知道，在未来可能会推出28纳米，但是和现在最先进的7nm EUV光刻机的距离还是有一些差距，我们需要做的是弯道超车，抛弃原有的光刻机的方法，我觉得才有可能成就我国的光刻机技术。

　　要知光刻机构件一二万个零件，中国能生产百分之七十的零部件，举国之力，完全可以自研自制。如果中国现在能制作部件达不到百分之六十，近三五年是造不出光刻机来。团队没有，现组也可以，我想专业人才应该不多，同类技术人才应该不缺吧！全国在显微镜下作业的人应该很多，把这些人组织起来攻关，很快就能突破，集思广纳，高手在民间。

　　只要有专攻+投入+时间，发展那是没有问题的。上世纪五十年代后期，中国在感光材料的发展也是从零开始…。到了八十年代，咱们不也是进入了深水区了吗！无论是色彩的还原度、解像能力(颗粒度)、低灰雾等…，都有不错的产品。如今只要加强激光微刻技术的完善，乃防串层涂抹材料纳米条件下的适用研究就行…

　　中国光刻机的问题，不是有没有“国家队”领衔研发，而是根本无机会“商业化”！

　　光刻机的用途就是生产芯片，因此这是一种投资巨大，必须要有巨大规模应用才会“有利可图”的一种产品。并且，光刻机无法像核弹、航空母舰等不计成本生产的军事装备那样考虑问题，光刻机研发生产出来，必须要“有利可图”！没有利润的光刻机，就是不值得投资的事情！所以，千万别把光刻机和歼-20、核弹等等混为一谈，因为这确实是完全不同的东西。

　　由于光刻机的商品属性，使得光刻机的研发，必须要经历“商业化”的这一环节。现在在中国，光刻机的原理和原型机研发部分，确实有“国家队”在做这方面的研究，在部分子系统上面也确实有成果出现。但在光刻机的“商业化”环节上，中国到现在，基本上没有什么值得夸耀的地方，这才是问题的所在。

　　在商言商，光刻机既然是一种生产工具，那就一定要赚钱！但现在的问题就是，基本看不到光刻机研发的商业前途在哪里？全球实际上对光刻机的需求就那么大，市场上的垄断领先企业一家就能满足所有先进芯片产业的需求了，并且这个垄断领先企业的“护城河”也砌的比太平洋还要宽广。此时，任何一个后进入光刻机市场的企业，首先要考虑的就是怎么活下去的问题！

　　大家会说，中国买不到先进光刻机，那整个中国的芯片产业不就都是中国光刻机潜在的客户嘛！这还不能养活一家中国的光刻机生产商吗？

　　但很遗憾地说，仅仅中国市场真的不太可能养活一个国产的先进光刻机生产商。别看中国正在拼命投资芯片产业，但仍旧无法与全世界的芯片产业相比。且由于中国的这个光刻机生产商是后进入行业的，必然产品的质量与世界水平有较大差距。因此，就变成了谁使用国产光刻机，谁的芯片生产成本必然会高过竞争对手。此时，就算是国内的芯片生产商，大概有条件的话，都会首选外国更先进的光刻机吧。此时，你让中国自己的这家光刻机生产商，怎么存活下去？总不能让它成为国家的负担，长期吃补贴吧！仅仅为军工的那一点点需求，就花难以想象的巨资开发光刻机？哪怕是地主家的余粮也禁不住这么瞎浪费吧！

　　至此，即便有专业的“国家队”将光刻机的原理和原型机技术都搞出来了，单单一个“商业化”就能成为无法逾越的拦路虎了。现在，中国光刻机研发最大的问题就是这个“商业化”问题，而这在我看来，却是一个根本没办法解决的问题。